한성희
(Seong-Hee Han)
1iD
성하욱
(Ha-Wuk Sung)
1iD
김동욱
(Dong-Wook Kim)
†iD
-
(Dept. of Radio and Information Communications Engineering, Chungnam National University,
Korea)
Copyright © The Korean Institute of Electrical Engineers(KIEE)
Key words
3D printing, Dielectric constant, Loss tangent, Substrate integrated waveguide, Power combiner
1. 서 론
3차원 프린팅 기술의 발전은 간단한 컴퓨터의 조작만으로 원하는 모양과 크기로 제품을 찍어낼 수 있는 단계까지 발전하였으며, 최근에는 의학 관련 인체
모델링, 자동차, 심지어 집까지도 3차원 프린팅으로 설계하고 있다. 최근에는 2가지 이상의 3차원 프린팅 재료를 동시에 병합하는 하이브리드 프린팅
기술이 도입되었고, 그 예로 수조 광경화와 전도성 재료의 직접 주사(direct writing) 기술을 결합하여 3차원 회로 장치를 제작하는 입체
전자회로 기술이 개발되었다(1). 수조 광경화 기술은 자외선 레이저 빛을 주사하여 상대적으로 정밀한 구조물을 쉽게 제작할 수 있는 기법으로 항공, 미세 가공, 전자부품 등에서 활용도가
높아질 전망이다.
본 논문에서는 3차원 프린팅 기술로 초고주파에서 동작 가능한 저손실 저유전율 전송선로 및 레진 기판 구조를 제안하였다. 저가격 기판을 제작하기 위해
광경화성 수지를 사용하는 3차원 프린터와 PCB 선로 제작용 프린터를 사용하였으며, 전자의 경우 Polaris社의 레진 3차원 프린터를 이용하였고
후자의 경우에는 Voltera社의 금속 PCB 프린터를 이용하였다. 전자파 시뮬레이션으로 3차원 구조체를 설계하였으며 3차원 프린터를 활용하여 제작한
구조의 측정값과 비교, 분석함으로써 초고주파 대역에서의 설계 유효성과 성능을 검증하였다.
기판 집적 도파관(Substrate Integrated Waveguide, SIW)을 변형한 구조인 빈 공간 기판 집적 도파관(Hollow Substrate
Integrated Waveguide, HSIW)을 수정하여 연구를 진행하였으며(2,3), 기판의 유전체 손실을 줄이기 위해 기판 일부를 공기로 대체한 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로(Partially Hollow Microstrip
Line, PHMLIN)와 부분적 빈 공간 기판 집적 도파관(Partially Hollow Substrate Integrated Waveguide,
PHSIW)을 제안하였다. 저가격 초고주파 부품으로의 활용을 위해 각 전송선로의 전송 특성을 검증한 후 PHMLIN-PHSIW 천이 구조와 이를 활용한
1:2 진행파 전력합성기를 설계, 제작 및 평가하였다.
2. PHMLIN 구조
본 논문에서 사용된 3차원 프린터는 광경화성 수지(레진)를 이용하며, 기존 논문에서 레진의 유전율 및 손실 탄젠트를 각각 2.7, 0.053으로 도출하였다(4). 여기서는 레진의 유전율 및 손실 탄젠트를 고려하여 기판 대부분을 공기로 대체한 PHMLIN 전송선로 구조를 제안하고, 설계 및 제작 결과를 제공한다.
2.1 시뮬레이션
그림 1은 손실 탄젠트를 줄이기 위하여 기판의 일정 부분을 제거한 PHMLIN 구조를 보여주고 있다. wms는 PHMLIN의 50 Ω 선폭, wh2는
기판에서 공기가 차지하는 폭, hh는 공기층의 높이, h는 기판의 전체 높이이며 lms는 PHMLIN의 전체 길이이다. 여기서
wh1의 구조물은 레진의 물리적 강도를 고려하여 제작 및 측정 시 커넥터 연결부에서 기판 형상을 유지하기 위하여 삽입하였다. 그림 1에 표시된 파라미터 값은 전자파 시뮬레이션으로 최적화되었으며 표 1에 나타내었다.
표 1에 제시된 파라미터 값을 가지는 전송선로의 시뮬레이션 결과를 그림 2에 나타내었다. 그림 2는 lms가 20 mm, 40 mm, 60 mm인 PHMLIN을 시뮬레이션한 결과이며 7 GHz에서 S21은 각각 약 -0.95 dB, -1.92
dB, -2.89 dB의 값을 가지며 S11은 설계 대역에서 -20 dB 이하의 값을 가지도록 설계하였다. PHMLIN의 길이에 따른 S21의 차이를
고려하였을 때 시뮬레이션에서의 단위 길이당 손실은 약 0.48 dB/cm임을 알 수 있다.
그림 1 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로
Fig. 1 Partially hollow microstrip line
표 1 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로 설계 파라미터
Table 1 Design parameters of the partially hollow microstrip line
|
Parameter
|
Value (mm)
|
Parameter
|
Value (mm)
|
|
wms
|
3
|
hh
|
0.4
|
|
wh1
|
1.5
|
h
|
1
|
|
wh2
|
10
|
lms
|
20, 40, 60
|
그림 2 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로의 길이에 따른 S 파라미터 시뮬레이션 결과
Fig. 2 Simulated S parameter results of the partially hollow microstrip lines with
different lengths
2.2 제작 및 측정
광경화성 수지, 레진의 높은 손실 탄젠트를 줄이기 위해 기판 매질의 일부를 공기로 대체했을 때 기판에 의한 손실의 개선 정도를 검증하고자 마이크로스트립
선로(Microstrip Line, MLIN)와 PHMLIN의 제작 및 측정 결과를 비교하였다.
2.2.1 MLIN
그림 3은 제작한 MLIN을 보여주고 있으며 기판의 높이는 1.0 mm, 선로 폭은 2.6 mm, 선로 길이는 각각 40 mm와 60 mm로 제작되었다.
그림 3을 SOLT(Short-Open-Load-Thru)로 보정하여 측정한 결과를 그림 4에 도시하였다. S21은 7 GHz에서 각각 -2.34 dB, -3.34 dB이며, S11은 설계 대역 내에서 -20 dB 이하로 측정되었다. MLIN의
길이에 따른 S21의 차이를 고려하였을 때 단위 길이당 손실은 약 0.52 dB/cm이며, 이는 커넥터 손실이 제외된 선로만의 손실이다. 측정 결과로부터
산출된 커넥터 자체 손실 및 연결 부정합 손실은 약 0.2 dB로 예상되었다.
그림 3 제작된 마이크로스트립 선로
Fig. 3 Fabricated microstrip line
그림 4 마이크로스트립 선로의 길이 변화에 따른 S 파라미터 측정 결과
Fig. 4 Measured S parameter results of the microstrip lines with different lengths
2.2.2 PHMLIN
그림 5는 시뮬레이션을 기반으로 제작한 PHMLIN을 보여주고 있으며 SOLT로 보정하여 측정한 결과를 그림 6에 도시하였다.
그림 5 제작된 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로
Fig. 5 Fabricated partially hollow microstrip line
그림 6 부분적 빈 공간 마이크로스트립 선로의 길이 변화에 따른 S 파라미터 측정 결과
Fig. 6 Measured S parameter results of the partially hollow microstrip lines with
different lengths
S21은 7 GHz에서 각각 -1.23 dB, -2.14 dB, -3.06 dB이며, S11은 설계 대역 내에서 -20 dB 이하로 측정되었다. PHMLIN의
길이에 따른 S21의 차이를 고려하였을 때 단위 길이당 손실은 약 0.46 dB/cm이며, MLIN의 단위길이당 손실과 비교하였을 때 손실 감소 효과를
확인할 수 있다. 측정 결과로부터 산출된 커넥터 자체 손실 및 연결 부정합 손실은 MLIN에서와 마찬가지로 약 0.2 dB로 예상되었다.
3. PHMLIN-PHSIW 천이 구조
본 장에서는 PHMLIN과 PHSIW 천이 구조를 도파관 이론에 근거하여 설계 및 제작하였고 결과를 분석하였다.
3.1 Title
SIW는 TEm0 모드만 존재하며 기본 전파 모드는 TE10 모드이다(5). SIW의 차단 주파수 특성 및 전파 모드는 구형 도파관의 식으로부터 도출될 수 있다. 식 (1)은 구형 도파관의 차단 주파수를 나타내며, 기본 전파 모드의 차단 주파수는 식 (2)와 같이 주어진다.
식 (3)은 TE 모드의 임피던스이며, 식 (4)를 이용해 SIW의 임피던스를 알 수 있다. 천이 구조의 테이퍼 선폭은 위의 식들을 통해 결정되었다. 본 논문에서 설계한 PHSIW 구조를 그림 7에 나타내었으며, 이를 이용한 PHMLIN-PHSIW 천이 구조를 그림 8에 나타내었다. 그림 8(a)는 마이크로스트립 선로에서 SIW로 천이되는 구조를 보여준다. aSIW 는 평행한 두 열의 비아 중심 사이의 폭, weq는 SIW의
실효 폭, d는 비아의 지름, p는 비아 간 간격, lt는 테이퍼의 길이, linput은 입력부의 PHMLIN의 길이, wt는
테이퍼의 폭, wtv는 50 Ω 임피던스 정합 개선을 위해 추가한 비아 간의 폭, ha는 공기층의 높이다.
그림 7 부분적 빈 공간 기판 집적 도파관
Fig. 7 Partially hollow substrate integrated waveguide
그림 8 부분적 빈 공간 마이크로스트립-기판 집적 도파관 천이 구조 (a) 금속선로 천이 구조 (b) 기판 천이 구조
Fig. 8 Partially hollow microstrip-substrate integrated waveguide transition (a) metal
line transition (b) substrate transition
그림 8(b)는 테이퍼 선로 밑에 위치한 PHMLIN에서 PHSIW로의 기판 천이 구조를 보여준다. 그림 8(b)의 구조는 wtr을 초기 값으로 하여 식 (9)에 의해 폭이 점점 줄어들게끔 설계되었다(6,7). 천이 구조의 설계 파라미터들은 식 (1)~(8)을 활용하여 초기 값이 정해졌으며(8), 전자파 시뮬레이션을 통해 최적화된 값을 도출하였다. 최종 설계 파라미터들은 표 2에 나타내었고, 전자파 시뮬레이션 결과를 그림 9에 도시하였다. 7 GHz에서 S21은 약 -0.68 dB와 -0.84 dB의 값을 가지며 S11은 설계 대역에서 -20 dB 이하의 값을 가지도록
하였다. PHSIW의 길이에 따른 S21의 차이를 고려하였을 때 단위 길이당 손실은 약 0.12 dB/cm로 계산되었다.
표 2 부분적 빈 공간 마이크로스트립-기판 집적 도파관 천이 구조 설계 파라미터들
Table 2 Design parameters of the partially hollow microstrip-substrate integrated
waveguide transition Parameter
|
Parameter
|
Value (mm)
|
Parameter
|
Value (mm)
|
|
d
|
1
|
weq
|
29.3
|
|
p
|
1.9
|
aSIW
|
30.3
|
|
wms
|
3
|
lt
|
6
|
|
wtv
|
23
|
linput
|
1
|
|
wtr
|
9
|
lSIW
|
15.2, 28.5
|
|
wt
|
10
|
ha
|
0.7
|
그림 9 부분적 빈 공간 마이크로스트립-기판 집적 도파관 천이 구조의 길이에 따른 S 파라미터 시뮬레이션 결과
Fig. 9 Simulated S parameter results of the partially hollow microstrip-substrate
integrated waveguide transition structures with different lengths
3.2 제작 및 측정
그림 10은 제작된 PHMLIN-PHSIW 천이 구조를 보여주고 있으며 S 파라미터 측정값을 그림 11에 도시하였다. 그림 11에서 저주파에서의 손실이 고주파보다 더 크게 측정된 원인은 설계 결과와 달리 실제 제작 후의 구조체 길이(lSIW) 및 폭(weq)에서
약간의 오차가 발생하였고 이로 인해 설계된 차단 주파수보다 실제 차단 주파수가 상향되어 측정된 주파수 영역에서 차단 주파수의 영향이 부분적으로 나타났기
때문이다.
그림 10 제작된 부분적 빈 공간 마이크로스트립-기판 집적 도파관 back-to-back 천이 구조
Fig. 10 Fabricated partially hollow microstrip-substrate integrated waveguide back-
to-back transition
그림 11 부분적 빈 공간 마이크로스트립-기판 집적 도파관 천이 구조를 포함한 back-to-back 구조의 선로 길이별 S 파라미터 측정 결과
Fig. 11 Measured S parameter results of the back-to-back structures with different
lengths that include partially hollow microstrip-substrate integrated waveguide transitions
측정된 두 개의 샘플들은 7 GHz에서 S21이 각각 -0.92 dB와 -1.11 dB의 값을 가졌으며, S11은 -20 dB 이하의 값을 보였다.
PHSIW의 길이에 따른 S21의 차이를 고려하였을 때 측정된 단위 길이당 손실은 약 0.14 dB/cm이며, 이는 측정용 커넥터 손실이 제외된 선로만의
손실이다. 시뮬레이션에 의하면, 입력부의 PHMLIN 구조에 따른 손실은 0.48 dB/cm이고, PHSIW는 0.12 dB/cm의 손실을 가지므로
선로의 총 손실을 감안하면 lt에 해당하는 포트 1과 2에 있는 2개 천이 구조의 손실은 0.4 dB로 계산될 수 있다. 측정 결과를 분석하였을
때 입력부의 PHMLIN 구조에 따른 손실은 0.46 dB/cm 이고, PHSIW는 0.14 dB/cm의 손실을 가진다. 또한, 입출력 양단의 천이
구조에서의 손실은 0.4 dB이므로 커넥터 자체 손실 및 연결부의 부정합 손실은 0.22 dB임을 알 수 있다. 이는 2.2절의 계산과 비교할 때
무시할 수 있을 정도로 작은 약 0.02 dB의 차이를 보인다.
3.3 TRL 보정
그림 12는 제작된 TRL(Thru-Reflect-Line) 보정 소자를 보여주고 있으며(9), Thru와 Line의 위상차는 비아 홀을 볼트로 대체하는 제작공정의 한계를 고려하여 시뮬레이션 기준으로 93.1°의 위상을 갖도록 설계하였다.
그림 13은 SOLT 및 TRL 보정 후 Thru 및 Line의 S 파라미터 측정 결과를 보여준다. SOLT 보정 후 Thru 및 Line의 S21은 7 GHz에서
각각 -0.92 dB, -1.11 dB의 값을 가지며, TRL 보정 후에는 각각 -0.003 dB, -0.263 dB의 값을 가졌다. 또한 Thru와
Line의 S21 위상 차는 92.5°로 SOLT로 보정 했을 때와 약 0.6°의 차이를 보였다. 따라서, 커넥터 손실 및 천이 구조의 효과가 적절히
디임베딩(de-embedding) 되었음을 알 수 있다. TRL 보정을 사용할 경우 Thru의 중간 위치가 측정 기준선이 되어 측정을 위해 불가피하게
사용되는 연결부의 효과를 제거할 수 있어 제안된 선로 구조 및 천이 구조로 제작되는 다양한 구조체들을 측정할 때 매우 효과적이다.
그림 12 제작된 TRL 보정 소자
Fig. 12 Fabricated TRL calibration devices
그림 13 SOLT 및 TRL 보정 후 Thru 및 Line의 S21 측정값
Fig. 13 Measured S21 of Thru and Line after SOLT and TRL calibration
3.4 PHMLIN 및 제안된 천이 구조의 평가
표 3은 본 논문에서 제안한 PHMLIN-PHSIW 천이 구조의 성능을 기존 MLIN-SIW 천이 구조 발표 논문들과 비교한 결과를 보여주고 있다(10,11). PCB 기판을 사용해 제작한 기존 논문들과 비교하였을 때, 동작 주파수를 감안 하더라도 단위 길이당 손실이 상대적으로 작음을 알 수 있다.
표 4는 PHMLIN-PHSIW 천이 구조를 기존의 3차원 프린터를 이용하여 제작한 MLIN-SIW 천이 구조 발표 논문들과 비교한 결과를 보여주고 있다(12,13). 참고문헌 (12)보다 주파수 대역이 높음에도 불구하고 정합 특성이 우수하며 손실 특성이 비슷함을 알 수 있다. 이는 테이퍼 비아로 인한 천이 구조의 개선(8)과 더불어 부분적 빈 공간 구조가 기판에 의한 유전체 손실을 감소시키기 때문이다.
4. PHMLIN-PHSIW 천이 구조 기반 1:2 진행파 전력합성기
본 장에서는 3장에서 제안된 PHMLIN-PHSIW을 기반으로 1:2 진행파 전력합성기를 설계, 제작하고 성능을 평가하였다.
4.1 이론 및 시뮬레이션
그림 14는 1:2 진행파 전력합성기 설계에 사용된 T-접합 전력합성기이며(14), 그림 15는 PHMLIN-PHSIW 천이구조를 기반으로 설계한 1:2 진행파 전력합성기를 나타낸다(15). 그림 15에서 W1은 대역폭을 정하는 윈도우(window)의 너비이며, W2는 포트 2와 포트 3의 적절한 전력 분배를 위해 정해지는 폭이다.
L1 및 L2는 포트 1에서 포트 2, 포트 3으로의 진행파 예상 경로의 길이를 각각 표시한 것이다. 표 5는 그림 15의 전력합성기 설계에 필요한 설계 변수이며 제시된 수치는 전자파 시뮬레이션으로 최적화된 값이다. 표 5에서 n(post)는 py를 조정하기 위한 비아 홀의 개수, n(w∈dow)는 윈도우 폭(W1)을 조절하기 위한 비아
홀의 개수이다. 포트 2와 포트 3으로 나누어지는 전력분배비 D1, D2는 식 (10)과 (11)로 표현되며, 그림 15의 W1과 W2의 값에 의해 결정된다. 식 (10)과 (11)로부터 계산된 값은 dB로 환산된 값이다. 진행파 전력합성기는 식 (10)과 (11)을 이용하여 포트 2와 3으로 동등하게 전력이 분배될 수 있도록 설계되었다.
표 3 제안된 PHMLIN-PHSIW 천이 구조와 기존 발표된 PCB 기반 마이크로스트립-SIW, 마이크로스트립-HSIW 천이 구조와의 성능 비교
Table 3 Performance comparison of the proposed PHMLIN-PHSIW transition and previously
published PCB-based microstrip-SIW and microstrip- HSIW transitions
|
|
This work
|
Ref. [10]
|
Ref. [11]
|
|
Transition
|
PHMLIN-
PHSIW
|
Microstrip-
HSIW
|
Microstrip-
SIW
|
|
Frequency
[GHz]
|
6.5~7.5
|
6.6~16.45
|
8~15
|
|
Return loss
[dB]
|
≥ 20
|
≥ 13.5
|
≥ 20
|
|
Insertion loss
[dB]
|
≤ 1.14
|
≤ 1.5
|
≤ 1.0
|
|
Length [mm]
|
42.5
|
36*
|
24.8
|
|
Insertion loss
per unit length [dB/cm]
|
≤ 0.27
|
≤ 0.417
|
≤ 0.403
|
|
Substrate
|
Resin
|
Rogers 5880
|
Rogers 4003
|
|
tanδ
|
0.053
@ 7 GHz
|
0.0009
@ 10 GHz
|
0.0027
@ 10 GHz
|
|
Thickness [mm]
|
1
|
0.508
|
0.208
|
* Estimated from the photograph of the fabricated sample
표 4 제안된 PHMLIN-PHSIW 천이 구조와 기존 발표된 3차원 프린팅을 이용한 마이크로스트립-SIW 천이 구조 결과와의 성능 비교
Table 4 Performance comparison of the proposed PHMLIN-PHSIW transition and previously
published microstrip-SIW transitions using 3D printing
|
|
This work
|
Ref. [12]
|
Ref. [13]
|
|
Transition
|
PHMLIN-
PHSIW
|
Microstrip-
SIW
(Honeycomb)
|
Microstrip-
SIW
(Suspended)
|
|
Fabrication
|
3D printing
|
3D printing
|
3D printing
|
|
Frequency[GHz]
|
6.5~7.5
|
3.4~5.5
|
3.1~4.8
|
|
Return loss[dB]
|
≥ 20
|
≥ 10
|
≥ 20
|
|
Insertion loss[dB]
|
≤ 1.14
|
≤ 1.81
|
≤ 4.34
|
|
Length [mm]
|
42.5
|
90*
|
50.6*
|
|
Insertion loss per unit length [dB/cm]
|
≤ 0.27
|
≤ 0.20
|
≤ 0.86*
|
|
Substrate
|
Resin
|
PLA
|
T-glase
|
|
tanδ
|
0.053
@ 7 GHz
|
0.03
@ 4 GHz
|
0.01
@ 3 GHz
|
|
Thickness [mm]
|
1
|
0.85
|
2
|
* Estimated from the photograph of the fabricated sample
그림 14 기판 집적 도파관 기반의 T-접합 전력합성기
Fig. 14 SIW-based T-junction power combiner
그림 15 PHMLIN, PHMLIN-PHSIW 천이 구조와 PHSIW 구조를 활용한 1:2 진행파 전력합성기
Fig. 15 1:2 traveling-wave power combiner using PHMLIN, PHMLIN-PHSIW transition and
PHSIW structures
표 5 1:2 진행파 전력합성기의 설계 파라미터
Table 5 Design parameters of the 1:2 traveling-wave power combiner
|
Parameter
|
Value (mm)
|
Parameter
|
Value (mm)
|
|
px
|
4.2
|
n(post)
|
5
|
|
py
|
20.3
|
n(w∈dow)
|
2
|
|
ppost
|
1.9
|
pw∈dow
|
2.5
|
4.2 제작 및 측정
그림 16은 표 5의 설계 파라미터를 사용하여 제작된 PHSIW 기반의 진행파 전력합성기를 보여주고 있다. 그림 17에 보인 바와 같이, 전력합성기의 시뮬레이션 결과는 7 GHz에서 S21, S31가 각각 –4.33 dB와 -4.39 dB의 값을 가졌으며, S11은
설계 대역 내에서 -20 dB 이하의 값을 가졌다. 입출력부 PHMLIN 손실, 천이 구조의 손실, PHSIW의 선로 L1과 L2의
손실을 고려하면, 포트 1에서 포트 2로의 삽입 손실은 약 1.03 dB, 포트 1에서 포트 3으로의 삽입 손실은 약 1.48 dB로 산정된다. W1의
길이는 19.5 mm, W2의 길이는 21 mm이므로 식 (10)과 (11)로부터 포트 2로의 전력 분배 D1은 -3.17 dB, 포트 3으로의 전력 분배 D2는 -2.85 dB에 해당된다. S21은 포트
1에서 2로의 삽입 손실과 D1을 더한 -4.2 dB로 계산될 수 있으며, 이는 전자파 시뮬레이션 결과와 약 0.13 dB 정도의 오차를
가진다. S31은 포트 1에서 3으로의 삽입 손실과 D2를 더한 -4.33 dB으로 산술 계산이 되며, 이는 전자파 시뮬레이션 결과와 약
0.06 dB의 오차를 가진다.
그림 16 제작된 PHSIW 기반 1:2 진행파 전력합성기
Fig. 16 Fabricated PHSIW-based 1:2 traveling-wave power combiner
그림 17 1:2 진행파 전력합성기의 S 파라미터 시뮬레이션 결과 및 제작된 전력합성기의 SOLT 보정 후의 측정 결과
Fig. 17 Simulated S parameter results of the 1:2 traveling-wave power combiner and
its measured S parameter results after SOLT calibration
그림 17은 제작된 1:2 진행파 전력합성기의 측정 결과를 보여주고 있다. 측정값은 7 GHz에서 S21, S31이 각각 약 -4.8 dB와 -4.6 dB의
값을 가지며, S11은 설계 대역에서 -20 dB 이하를 유지한다. 입·출력부의 PHMLIN 손실, PHMLIN과 PHSIW 사이의 천이 구조 손실
그리고 그림 15의 44.1 mm의 L1과 82.1 mm의 L2의 손실을 고려하면, 포트 1에서 2로의 삽입 손실은 약 1.11 dB, 포트 1에서
3으로의 삽입 손실은 약 1.64 dB가 된다. W1의 길이는 19 mm, W2의 길이는 20.3 mm이므로 식 (10)과 (11)를 이용하면 포트 2으로의 전력 분배비 D1은 -3.16 dB, 포트 3 방향으로의 전력 분배비 D2는 -2.87 dB가 된다.
S21은 포트 1에서 2로의 삽입 손실과 D1 그리고 3.2절에서 구한 커넥터 손실을 더해서 -4.47 dB가 되며 이는 측정값과 약 0.33
dB의 오차를 가진다. S31은 포트 1에서 3으로의 삽입 손실과 D2, 그리고 커넥터 손실을 더해 -4.71 dB이 되며 측정값과 약 0.11
dB의 오차를 가진다. 따라서, 앞에서 제시된 부분별 측정 결과와 식으로부터 산술적으로 계산되는 전달 특성은 3차원 전자파 시뮬레이션으로 예측된 값
및 실제 측정된 결과와 어느 정도 잘 부합함을 알 수 있다.
표 6 1:2 진행파 전력합성기의 설계 파라미터와 제작된 샘플의 측정 파라미터
Table 6 Design parameters of the 1:2 traveling-wave power combiner and measured parameters
of its fabricated sample
|
Parameter
|
Value (mm)
|
|
Design
|
Measured
|
|
px
|
4.2
|
3.7
|
|
py
|
20.3
|
19.8
|
|
ppost
|
1.9
|
1.9
|
|
pw∈dow
|
2.5
|
2.5
|
|
W1
|
19.5
|
19
|
|
W2
|
21
|
20.3
|
|
L1
|
44.1
|
42.2
|
|
L2
|
82.1
|
80.1
|
|
ltotal
|
89.1
|
88.5
|
|
wtotal
|
49.5
|
49.3
|
표 6은 전자파 시뮬레이션 설계 파라미터 값과 실제 3차원 프린팅으로 제작된 샘플의 파라미터 값을 보여주고 있다. px, py, W1,
W2은 약 0.5~0.7 mm의 오차를 가지며 L1, L2는 약 2 mm의 오차를 보였다. 이러한 오차는 3차원 프린터로
인쇄된 잉크를 160℃ 이상의 열로 가열하여 경화하는 과정에서 레진 기판이 부분별로 약간 다르게 수축과 팽창이 발생하기 때문이다.
그림 18은 3장에서 제작한 TRL 보정 소자를 이용하여 측정한 결과를 보여주고 있다. TRL 보정 소자를 이용하여 측정하는 경우 커넥터 및 천이 구조의 손실을
손쉽게 디임베딩 할 수 있어 진행파 전력합성기 자체의 전력 분배 비율을 쉽게 측정할 수 있다. 7 GHz에서 시뮬레이션 상으로 S21 및 S31은
각각 -3.70 dB, -3.76 dB이며 S11은 설계 대역에서 -20 dB 이하를 만족하였다. 측정 결과 S21과 S31은 각각 -3.79 dB,
-3.71 dB 였으며 S11은 설계 대역보다 약간 좁은 대역에서 -20 dB를 만족하였다.
그림 19는 제작된 1:2 진행파 전력합성기의 삽입 손실 및 전력 결합 효율을 시뮬레이션의 결과와 비교하였다. 7 GHz에서 반사손실이 고려된 시뮬레이션 상
삽입 손실은 약 0.63 dB, 결합 효율은 약 86.6%이며, TRL 보정 소자로 측정된 삽입 손실은 약 0.66 dB, 결합 효율은 약 86.1%였다.
그림 18 제작된 1:2 진행파 전력합성기의 TRL 보정 후의 S 파라미터 측정 결과
Fig. 18 Measured S parameter results of the 1:2 traveling-wave power combiner after
TRL calibration
그림 19 제작된 1:2 진행파 전력합성기의 삽입 손실 및 전력 결합 효율
Fig. 19 Insertion loss and power combining efficiency of the fabricated 1:2 traveling-
wave power combiner
표 7은 본 논문에서 제안한 PHMLIN, PHMLIN-PHSIW 천이 구조, PHSIW를 활용하여 구현한 1:2 진행파 전력합성기의 성능을 다양한 천이
구조를 활용한 진행파 전력합성기의 기존 발표된 성능과 비교하고 있다(15,16). 참고문헌 (15)와 비교해보면, 제안된 구조는 동작 주파수 대역이 낮음에도 불구하고 기판 유전체의 손실 탄젠트로 인해 손실 특성이 다소 떨어진다. 참고문헌 (16)과 비교하면, 제안된 구조는 주파수 대역이 높음에도 불구하고 정합 특성 및 손실 특성이 우수하고 8% 이상의 전력 결합 효율 차이를 보임을 알 수
있다. 이는 사용된 구조가 부분적 빈 공간 구조를 활용함으로써 유전체 자체의 손실 효과를 저감시켰고, 천이 구조의 정합 특성을 개선하기 위한 구조를
활용하였기 때문이다.
표 7 제안된 3차원 프린팅 기반 1:2 진행파 전력합성기와 기존 발표된 진행파 전력합성기의 결과 비교
Table 7 Performance comparison of the proposed 1:2 traveling-wave power combiner using
3D printing and previously published traveling-wave power combiners
|
|
This work
|
Ref. [15]
|
Ref. [16]
|
|
Configuration
|
Traveling-
wave
|
Traveling-
wave
|
Traveling-
wave
|
|
Transmission
|
PHSIW
|
HSIW
|
SIW
|
|
Dividing ratio
|
1:2
|
1:3
|
1:2
|
|
Frequency
[GHz]
|
6.5~7.5
|
13.5~14.5
|
2~3.5
|
|
Return loss [dB]
|
≥ 18
|
≥ 21
|
≥ 14.3
|
|
Insertion loss [dB]
|
≤ 0.87
|
≤ 0.6
|
≤ 1.3
|
|
Power combining efficiency [%]
|
82.1~87.9
|
87.1~88.3
|
74*
|
|
Substrate
|
Resin
|
Rogers 4003
|
Rogers 4360
|
|
tanδ
|
0.015
@ 7 GHz
|
0.0027
@ 10 GHz
|
0.0038
@ 10 GHz
|
|
Thickness [mm]
|
1
|
0.305
|
0.305
|
* Estimated from the photograph of the fabricated sample
5. 결 론
본 논문에서는 3차원 프린팅 기법을 활용하여 저손실 전송 특성과 낮은 유효 유전율을 가지는 부분적 빈 공간 구조의 전송선로, 천이 구조, 기판 집적
도파관 구조를 제안하고 그 성능을 평가하였다. 또한, 제안된 전송선로 구조를 적용한 1:2 진행파 전력합성기를 개발하였고, 기존 발표된 진행파 전력합성기들과
성능을 비교하였다. 3차원 프린팅으로 제작된 레진 기판의 초고주파 특성을 평가함으로써 3차원 프린팅 기반의 초고주파 부품 개발 가능성을 확인하였으며,
초기 설계를 위한 설계 방정식과 3차원 전자파 시뮬레이션이 제안된 구조의 설계에 충분히 유효함을 보였다. 현재 제안된 구조는 10 GHz 이내의 주파수
영역에서는 기존 방식 대비 우수한 성능을 보였지만, 기판 물질의 손실 특성으로 인해 Ku-대역 이상의 주파수 영역에서 활용하기 위해서는 기판 물질의
변경이 필요하다. 제안된 PHMLIN-PHSIW 천이 구조는 천이 구조당 약 0.2 dB의 삽입 손실을 가졌으며, 이를 활용하여 개발된 1:2 진행파
전력합성기는 82.1~87.9%의 우수한 전력 결합 효율을 보였다. 제안된 3차원 프린팅 기반 초고주파 부품 기술은 제작 시간과 비용 절감이 요구되는
다품종 소량 생산 초고주파 부품 개발에 효과적으로 활용될 수 있다.
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Applied Sciences, Vol. 13, No. 1

저자소개
He received the B.S. degree in Radio Science and Engineering from Chungnam National
University, Daejeon, South Korea, in 2021.
He is currently a M.S. student.
His research interests include 3D printing techniques and their applications to microwave
devices and components.
He received the B.S. degree in Radio Science and Engineering from Chungnam National
University, Daejeon, South Korea, in 2020.
He is currently a M.S. student.
His research interests include GaN HEMT power amplifier MMIC and low noise amplifier
MMIC.
He received the B.S. degree in electronic communications from Hanyang University,
Seoul, Korea, in 1990, and the M.S. and Ph.D. degrees in electrical engineering from
the Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST), Daejeon, Korea, in
1992 and 1996, respectively.
In 1996, he joined the LG Electronics Research Center, where he developed high power
devices and monolithic microwave integrated circuits until 2000.
From 2000 to 2002, he led research teams and developed RF integrated passive devices
on a thick oxidized Si substrate as a director of the research center in Telephus
Inc.
From 2002 to 2004, he was involved with the development of wireless security systems
in S1 Corporation, a company of Samsung Group.
In 2004, he joined the faculty of Chungnam National University, Daejeon, Korea and
is with it.
He is currently a director of Research Center of Radio Science and Electrical Engineering.
His research interests are monolithic microwave integrated circuits and their applications,
short range radar modules, and ultra wideband circuits and systems.